特許
J-GLOBAL ID:200903088213393839

インダクシヨンプラズマトーチ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田中 浩 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-323751
公開番号(公開出願番号):特開平5-135896
出願日: 1991年11月11日
公開日(公表日): 1993年06月01日
要約:
【要約】【目的】 インダクションプラズマトーチによる粉体の溶融、溶射に当たって、左右にバランスのとれたプラズマ炎を発生させるとともに、外部からの影響を受けることなく均質な溶射を行なう。【構成】 窒化ほう素焼結体を素材として内部に多段の同心円状挿着孔1a乃至1eと1jおよび1kを形成した円筒状支持体1に窒化ほう素焼結体を用いて作ったキャリアガス導入管4、中間管3、外側管2、冷却管13を順次同心円状に嵌合螺着させる。
請求項(抜粋):
窒化ほう素焼結体よりなり、内部に多段の同心円状挿着孔を形成した円筒状支持体に、窒化ほう素焼結体製のキャリアガス導入管、中間管、外側管および冷却管を順次嵌合螺着させるとともに、前記支持体内の中間管、外側管および冷却管の先端に該管に対して接線方向にガスを導入するガス供給管を嵌合螺着したことを特徴とする四層構造のインダクションプラズマトーチ。
IPC (2件):
H05H 1/30 ,  C23C 4/00

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