特許

J-GLOBAL ID：200903088231690875

荷電ビーム露光装置

発明者： 鈴木 正平
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-356374
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176737
出願日： 1997年12月10日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】 分割転写方式においても、ハイブリッド歪を小さくできる荷電ビーム露光装置を提供する。【解決手段】 マスク12を通過した荷電粒子ビーム2は、転写レンズ3により、ウェハ13上にマスク12のパターンを結像させる。各偏向器6〜9には、計算機16から偏向収差を最小とする信号として、dx1(Xw,Yw,Z,I,s)、dy1(Xw,Yw,Z,I,s)、dx2(Xw,Yw,Z,I,s)、dy2(Xw,Yw,Z,I,s)、・・・・が送られている(Xw、Ywはウェーハ上での偏向転写位置、Zはウェハの高さ、Iはマスク上のサブフィールドのパターン部を通過する電流量、sはパターンの散らばり具合を示す量)。そして、各偏向器6〜9には、これらの信号と偏向歪みを補正する関数g(Xw,Yw,Z,I,s)の積の信号が与えられる。

請求項（抜粋）：

荷電ビーム光学鏡筒のビーム通路にマスクが配置され、そのマスク上のパターンは小領域に分割されてマスク上に配置されており、照明ビームをマスクよりも上流に設けられた偏向器で偏向することによって特定の前記小領域を照明し、当該小領域の像を被露光面上に結像転写し、かつ、マスクより下流に設けられた複数個の偏向器により前記小領域を被露光面上ではつなげて配列することにより所定の大領域パターンを形成するように構成した荷電ビーム露光装置において、前記マスクより下流の個々の偏向器の励磁電流、又は印加電圧は、偏向歪みを除いた収差を補正する関数と偏向歪みを補正する関数の積で決定され、前記偏向歪みを除いた収差を補正する関数は、ウェハ上の転写位置、ウェハの高さ、マスク上の小領域内のパターン部を通過する電流量、及び小領域内のパターンの散らばり具合を独立変数として有することを特徴とする荷電ビーム露光装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 M