特許

J-GLOBAL ID：200903088243526035

放電プラズマ処理装置

発明者： 岩根 和良
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-007673
公開番号（公開出願番号）：特開2003-217898
出願日： 2002年01月16日
公開日（公表日）： 2003年07月31日
要約：

【要約】【課題】 放電空間を十分に大きくでき、ストリーマー放電の発生を抑え、小電力で高密度のプラズマを発生させる放電が可能であり、かつ電極を被覆する固体誘電体の劣化を抑えることのできる電極構造を有するリモート型の放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下、対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該電極間に処理ガスを導入し電界を印加することにより得られる放電プラズマを、放電空間外に配置された被処理体に接触させて処理する放電プラズマ処理装置であって、当該電極は、対向面が曲率半径25mmを超え2000mm以下の凸状曲面によって構成される略かまぼこ形状であることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

大気圧近傍の圧力下、対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該電極間に処理ガスを導入し電界を印加することにより得られる放電プラズマを、放電空間外に配置された被処理体に接触させて処理する放電プラズマ処理装置であって、当該電極は、対向面が曲率半径25mmを超え2000mm以下の凸状曲面によって構成される略かまぼこ形状であることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H05H 1/24 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H05H 1/24 ,  H01L 21/302 B

Fターム (9件)：

5F004AA09 ,  5F004BA03 ,  5F004BB18 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CA05 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB08