特許

J-GLOBAL ID：200903088246646848

レーザー光源の光で対象物を照射する方法

発明者： ラファエル シュトルツ ,  ヨハン エンゲルハルト ,  ホルガー ビルク
出願人/特許権者： ライカ マイクロシステムス ハイデルベルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 伊藤 武久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-253112
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148522
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】レーザー光のコヒーレンス長を短縮させて、不具合な干渉現象を十分抑止できる方法を提供する。【解決手段】レーザー光源(3)の光(2)で対象物を照射する方法において、光場の位相ポジションを変調手段(4)により変化させて、予め設定可能な時間間隔内で光路内に干渉現象が生じないように、或いは検出不能な範囲でしか生じないようにする。

請求項（抜粋）：

レーザー光源(3)の光(2)で対象物を照射する方法において、光場の位相ポジションを変調手段(4)により変化させて、予め設定可能な時間間隔内で光路内に干渉現象が生じないように、或いは検出不能な範囲でしか生じないようにすることを特徴とする方法。

IPC (4件)：

G02B 21/06 ,  G02B 26/06 ,  G02F 1/01 ,  H01S 3/00

FI (4件)：

G02B 21/06 ,  G02B 26/06 ,  G02F 1/01 Z ,  H01S 3/00 F

Fターム (22件)：

2H041AA08 ,  2H041AA23 ,  2H041AB14 ,  2H041AB24 ,  2H041AC01 ,  2H041AC08 ,  2H052AA08 ,  2H052AC15 ,  2H052AC30 ,  2H052AC34 ,  2H079AA04 ,  2H079BA03 ,  2H079CA11 ,  2H079HA11 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK05 ,  5F072KK15 ,  5F072MM03 ,  5F072MM04 ,  5F072MM14 ,  5F072MM17 ,  5F072YY11