先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大川宏
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-524863
公開番号（公開出願番号）：特表2007-516600
出願日： 2004年08月27日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

高エネルギピコ秒、ナノ秒パルス用ファイバベース光源が記載される。ファイバ増幅器での非線形エネルギ制限を最小化することで、光ファイバの損傷閾値に近いパルスエネルギが発生され得る。少なくとも一つの非線形ファイバ増幅器を含む増幅器チェーンと共に最適化されたシード光源を実施することは、バンド幅制限近い高エネルギピコ秒パルスの発生を可能にする。高エネルギパルス化されるファイバ増幅器の最適化シード光源は、半導体レーザも伸長モードロックファイバレーザも含む。ファイバ増幅器から得られるパルスエネルギの最大化は、さらに高繰り返し周期で高エネルギ紫外、赤外パルスの発生を可能にする。

請求項（抜粋）：

20ピコ秒と20ナノ秒の間のパルス幅と10マイクロジュール以上のパルスエネルギとを持つパルスを1kHz以上の繰り返し周期で発生するパルス光源であって、該パルス光源は、シードパルスを作るシード光源と、前記シード光源から前記シードパルスを受けて1マイクロジュール以上のパルスエネルギを持つパルスを作るファイバ増幅器チェーンと、少なくとも一つのバルク光学素子と、を有し、前記ファイバ増幅器チェーンは、少なくとも一つのコア径が12マイクロメートル以上の大コア径クラッドポンプ偏光保持ファイバ増幅器を備え、前記バルク光学素子は、前記ファイバ増幅器チェーンで作られた前記パルスを周波数変換する。

IPC (2件)：

H01S 3/10 , H01S 3/06

FI (2件)：

H01S3/10 Z , H01S3/06 B

Fターム (17件)：

5F172AE03 , 5F172AE09 , 5F172AE12 , 5F172AF02 , 5F172AF03 , 5F172AF05 , 5F172AF06 , 5F172AM08 , 5F172DD04 , 5F172NN06 , 5F172NN14 , 5F172NN16 , 5F172NN23 , 5F172NN26 , 5F172NQ08 , 5F172NR14 , 5F172NR22

引用特許：

審査官引用 (7件)

レーザ治療装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-078636 出願人：株式会社ニコン
短光パルスの増幅装置および発生装置、非線形群速度分散ミスマッチの補正方法、ストレッチされた超短パルスの増幅装置、光学増幅装置およびその運転方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-103768 出願人：イムラアメリカインコーポレイテッド
光学増幅装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-175755 出願人：イムラアメリカインコーポレイテッド

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