特許

J-GLOBAL ID：200903088257155285

光磁気記録媒体、その製造方法および製造装置

発明者： 吉川 博樹
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-121478
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333279
出願日： 1993年05月24日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明は成膜時に着磁され、したがって消去状態にあることから、消去、記録、照合が必要とされる検査工程において消去工程を省略することができ、検査工程の削減が可能とされる光磁気記録媒体、その製造方法、製造装置の提供を目的とするものである。【構成】 本発明の光磁気記録媒体は、垂直磁化膜の着磁状態を偏光角信号でみたときの着磁率が20%以上であることを特徴とするものであり、この製造方法は基板にスパッタリングで成膜して光磁気記録媒体を製造する方法において、垂直磁化膜を成膜するときに膜面の垂直方向に50エルステッド以上の磁場を印加することを特徴とするもので、この製造装置は50エルステッド以上の磁場を印加する手段を設けてなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

基板にスパッタリング成膜して光磁気記録媒体を製造する方法において、垂直磁化膜を成膜するときに膜面の垂直方向に50エルステッド以上の磁場を印加することを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。