画像処理を用いた不良箇所検出方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森本義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-090101
公開番号（公開出願番号）：特開2003-288583
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】パターンのエッジ部分の平滑化比較画像がなだらかになることを防ぎ、パターンの端部を故障箇所と誤認することなく正確に故障箇所を検出することが可能な画像処理を用いた不良箇所検出方法を提供することを目的とする。【解決手段】元画像を平滑化する際に、シフト前の注目画素35とその周囲の比較画素の濃度差によりシフト前の注目画素35のシフトを行うために、パターンのエッジを損なうことなく平滑化できるので、パターンの端部を故障箇所と誤認することなく正確な故障箇所検出を行うことができる。

請求項（抜粋）：

被検査体の不良箇所を検出するに際し、前記被検査体を撮像する工程と、前記被検査体を撮像した撮像画像の任意の画素を第1の注目画素として抽出する工程と、前記第1の注目画素から所定の距離だけ離れた複数の比較画素と前記第1の注目画素との濃度を比較する工程と、前記第1の注目画素との濃度差が所定の値以上となる比較画素がある場合には、前記第1の注目画素をその比較画素と反対方向の所定の距離離れた画素に移動して第2の注目画素とする工程と、前記第2の注目画素とその近傍の複数の画素の濃度の平均値を算出してその値を前記第1の注目画素の真の濃度とする工程と、前記第1の注目画素として前記被検査体を撮像した撮像画像の任意の画素以外の全ての画素を抽出して真の濃度を抽出する工程と、前記真の濃度を用いて平滑化比較画像を生成する工程と、前記撮像画像と前記平滑化比較画像を比較して所定の濃度差以上の濃度差のある画素を不良箇所として検出する工程とを有することを特徴とする画像処理を用いた不良箇所検出方法。

IPC (5件)：

G06T 1/00 305 , G01B 11/00 , G01B 11/30 , G01N 21/88 , G06T 5/20

FI (5件)：

G06T 1/00 305 A , G01B 11/00 H , G01B 11/30 A , G01N 21/88 J , G06T 5/20 C

Fターム (39件)：

2F065AA49 , 2F065CC19 , 2F065CC25 , 2F065FF04 , 2F065HH12 , 2F065JJ08 , 2F065JJ24 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065QQ42 , 2G051AA51 , 2G051AA73 , 2G051AB01 , 2G051AB05 , 2G051BB20 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EA16 , 2G051EC03 , 2G051ED08 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CE05 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC22 , 5B057DC32 , 5B057DC36

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