特許

J-GLOBAL ID：200903088268015957

真空チヤック装置

発明者： 黒田 正幸
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-103323
公開番号（公開出願番号）：特開平5-293733
出願日： 1992年04月23日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：

【要約】【目的】被加工物の表面構造、表面性状を均一かつ良質にすることができるように被加工物を保持する真空チヤック装置を提供する。【構成】被加工物1を保持する真空チヤック装置において、真空チヤック2の表面またはその近傍に合成ゴムまたは合成樹脂からなる弾性力を有する構造部材3を設け、被加工物1を前記真空チヤック2上に吸着保持した場合に、被加工物1と前記構造部材3との対接面を密着させることにより、真空チヤック2を外気から密閉するように構成したものである。

請求項（抜粋）：

被加工物等の物体を真空チヤック部にて保持する真空チヤック装置において、前記真空チヤック部の表面又はその近傍に、合成ゴム又は合成樹脂から成る構造部材を設け、前記物体を前記真空チヤック部上に保持した場合に、前記物体と前記構造部材との対接面を密着させることにより、前記真空チヤック部を密閉するように構成したことを特徴とする真空チヤック装置。