光重合性感光材料

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-208630
公開番号（公開出願番号）：特開平8-076369
出願日： 1994年09月01日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】光重合性組成物の保存安定性を向上させる。【構成】支持体上に、少なくともアクリル酸および、または、メタクリル酸を重合して得られる高分子重合体層を設け、さらに少なくとも(a)一種の常温で非ガス状のエチレン性不飽和化合物(b)下記一般式化1で示されるフェニルグリシン誘導体(c)光開始剤を含有する光重合性組成物からなる層を設けてなる光重合性感光材料。式中R1 はC1 〜C12のアルキル基、C2 〜C12のアルケニル基等、より選ばれ、ベンゼン環と縮合多環化合物を形成してもよいnは0または1でありR2,R3 は同じかまたは異なる基であり、水素または、C1 〜C12のアルキル基から選ばれるものである。

請求項（抜粋）：

支持体上に、少なくともアクリル酸および、またはメタクリル酸を含む単量体を重合して得られる高分子重合体層を設け、さらに少なくとも(a)一種の常温で非ガス状のエチレン性不飽和化合物(b)下記一般式化1で示されるフェニルグリシン誘導体(c)光開始剤を含有する光重合性組成物からなる層を設けてなる光重合性感光材料。【化1】式中R1 はC1 〜C12のアルキル基、C2 〜C12のアルケニル基、C2 〜C12のアルキニル基、C1 〜C8 のアルコキシ基、シアノ基、アルキルチオ基、フェノキシ基、C2 〜C6 のモノカルボン酸およびエステルおよびアミド、フェニル基、C2 〜C5 のアルカノイル基、アンモニウム塩、ピリジニウム基、ニトロ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルフォニル基、スルファモノル基より選ばれ、ベンゼン環と縮合多環化合物を形成してもよいnは0または1でありR2,R3 は同じかまたは異なる基であり、水素または、C1 〜C12のアルキル基から選ばれるものである。

IPC (6件)：

G03F 7/004 502 , G03F 7/00 501 , G03F 7/027 502 , G03F 7/028 , G03F 7/033 , H05K 3/06

引用特許：

審査官引用 (18件)

光重合性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-079879 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開昭63-068831
特開昭63-032541

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