特許
J-GLOBAL ID:200903088273823212

ケイ酸塩蛍光体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-154747
公開番号(公開出願番号):特開2004-352936
出願日: 2003年05月30日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
【課題】輝度が高い真空紫外線励起発光素子用ケイ酸塩蛍光体の製造方法を提供する。【解決手段】金属化合物の混合物であって還元性雰囲気中における焼成によりケイ酸塩蛍光体を構成しうる混合物を還元性雰囲気中において焼成を行った後に、酸化性雰囲気中において400°C以上700°C以下の温度範囲で熱処理することを特徴とする真空紫外線励起発光素子用ケイ酸塩蛍光体の製造方法。金属化合物の混合物であって還元性雰囲気中における焼成によりケイ酸塩蛍光体を構成しうる混合物にカーボンを含有させ、還元性雰囲気中において焼成することを特徴とする真空紫外線励起発光素子用ケイ酸塩蛍光体の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
金属化合物の混合物であって還元性雰囲気中における焼成によりケイ酸塩蛍光体を構成しうる混合物を還元性雰囲気中において焼成を行った後に、酸化性雰囲気中において400°C以上700°C以下の温度範囲で熱処理することを特徴とする真空紫外線励起発光素子用ケイ酸塩蛍光体の製造方法。
IPC (2件):
C09K11/08 ,  C09K11/59
FI (2件):
C09K11/08 B ,  C09K11/59
Fターム (12件):
4H001CA02 ,  4H001CA04 ,  4H001CF02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA12 ,  4H001XA14 ,  4H001XA20 ,  4H001XA30 ,  4H001XA38 ,  4H001XA56 ,  4H001YA25 ,  4H001YA63
引用特許:
審査官引用 (4件)
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