特許

J-GLOBAL ID：200903088278118282

酸発生剤の選別方法

発明者： 花元 幸夫 ,  山本 敏
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-150079
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331714
出願日： 2004年05月20日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：

【課題】保存安定性良好な化学増幅型ポジ及びネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】〔1〕バインダー成分、純度98重量%以上の酸発生剤及び溶剤を混合してフォトレジスト組成物を製造するに際して、該純度98重量%以上の酸発生剤をエタノールに溶解させた溶液のゼータ電位が0mv以下を示す酸発生剤を選別して用いるフォトレジスト組成物用酸発生剤の選別方法。〔2〕バインダー成分、純度98重量%以上の酸発生剤及び溶剤を含有するフォトレジスト組成物の保存方法において、該純度98重量%以上の酸発生剤をエタノールに溶解させた溶液のゼータ電位が0mv以下を示す酸発生剤を選別して用いるフォトレジスト組成物の保存方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

バインダー成分、純度98重量%以上の酸発生剤及び溶剤を混合してフォトレジスト組成物を製造するに際して、該純度98重量%以上の酸発生剤をエタノールに溶解させた溶液のゼータ電位が0mv以下を示す酸発生剤を選別して用いることを特徴とするフォトレジスト組成物用酸発生剤の選別方法。

IPC (1件)：

G03F7/004

FI (1件)：

G03F7/004 503A

Fターム (11件)：

2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB00 ,  2H025CC20

引用特許：

出願人引用 (2件)

• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-015401   出願人：和光純薬工業株式会社, 住友化学工業株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-315265   出願人：住友化学工業株式会社