特許

J-GLOBAL ID：200903088281306154

露光装置

発明者： 山崎 光明
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-106507
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290280
出願日： 2000年04月07日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】 複雑、高価、かつ大きなスペースを必要とすることなく、高品位、高精度の焼付けが可能な露光装置を構成することを目的とする。【解決手段】 フォトマスク1 を介して未露光フォトマスク部材3 に露光用光源11からの光10を照射してフォトマスクのパターンと同じかまたは反転したパターンを焼付ける露光装置において、露光用光源を平面発光装置で構成した。

請求項（抜粋）：

所定のパターンを有するフォトマスクを介して未露光フォトマスク部材に露光用光源から光を照射することにより上記フォトマスクのパターンと同じかまたは反転したパターンを焼付ける露光装置において、上記露光用光源が平面発光装置からなることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  H01J 9/14 ,  H01L 23/50

FI (3件)：

G03F 7/20 501 ,  H01J 9/14 H ,  H01L 23/50 A

Fターム (7件)：

2H097AA20 ,  2H097CA01 ,  2H097CA11 ,  2H097GA00 ,  2H097LA20 ,  5C027HH09 ,  5F067DA16