光学機能性フィルム、及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：光来出良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-144280
公開番号（公開出願番号）：特開2002-341106
出願日： 2001年05月15日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】長尺の透明基材フィルムに対しても塗膜を生産性よく形成でき、実用性に耐える機械的強度、耐熱性に優れた光学機能性フィルムを提供する。【解決手段】透明基材フィルム面に、直接又は他の層を介して、低屈折率層を形成した光学機能性フィルムであって、該低屈折率層が水素結合形成基を有する電離放射線硬化性モノマー及び/又はオリゴマーと、一般式、RmSi(OR′)n(Rは炭素数1〜10のアルキル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基等の反応性基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される少なくとも2種以上の珪素アルコキシドの部分加水分解物又は加水分解物とから形成され、かつ、該低屈折率層の少なくとも表層部は、前記水素結合形成基を有する電離放射線硬化性モノマー及び/又はオリゴマーが除去されて形成された微細空孔を有する。

請求項（抜粋）：

透明基材フィルム面に、直接又は他の層を介して、低屈折率層を形成した光学機能性フィルムであって、該低屈折率層が水素結合形成基を有する電離放射線硬化性モノマー及び/又はオリゴマーと、次の一般式、【化1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基、又はビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基等の反応性基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される少なくとも2種以上の珪素アルコキシドの部分加水分解物又は加水分解物とから形成され、かつ、該低屈折率層の少なくとも表層部は、前記水素結合形成基を有する電離放射線硬化性モノマー及び/又はオリゴマーが除去されて形成された微細空孔を有することを特徴とする光学機能性フィルム。

IPC (7件)：

G02B 1/11 , B05D 1/36 , B05D 7/24 302 , B32B 7/02 103 , B32B 27/00 101 , B32B 27/16 , G09F 9/00 313

FI (7件)：

B05D 1/36 Z , B05D 7/24 302 Y , B32B 7/02 103 , B32B 27/00 101 , B32B 27/16 , G09F 9/00 313 , G02B 1/10 A

Fターム (66件)：

2K009AA02 , 2K009BB24 , 2K009CC24 , 2K009CC42 , 2K009DD02 , 4D075AE03 , 4D075AE19 , 4D075BB21Z , 4D075BB46Z , 4D075BB47Z , 4D075BB65Z , 4D075CA02 , 4D075CA03 , 4D075CA13 , 4D075CA18 , 4D075CA38 , 4D075CA47 , 4D075CB03 , 4D075DA04 , 4D075DB36 , 4D075DB40 , 4D075DB43 , 4D075DB48 , 4D075DC13 , 4D075DC24 , 4D075DC30 , 4D075EA05 , 4D075EA43 , 4D075EB13 , 4D075EB22 , 4D075EB43 , 4D075EB56 , 4F100AK25 , 4F100AK42 , 4F100AK52B , 4F100AK52C , 4F100AL05B , 4F100AL05C , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100BA10C , 4F100DC11B , 4F100DC11C , 4F100DJ10B , 4F100DJ10C , 4F100EH46 , 4F100GB41 , 4F100JB14B , 4F100JB14C , 4F100JJ03 , 4F100JK01 , 4F100JN01A , 4F100JN18B , 4F100JN18C , 4F100JN30 , 5G435AA08 , 5G435AA12 , 5G435AA17 , 5G435FF02 , 5G435GG11 , 5G435HH02 , 5G435HH03 , 5G435KK07

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