特許
J-GLOBAL ID：200903088285953596
プラズマディスプレイパネルの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-134103
公開番号（公開出願番号）：特開2004-342348
出願日： 2003年05月13日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】PDPの、アドレス電極などの構造物の形成をフォトリソグラフィ法により行うPDPの製造方法において、フォトマスクに付着したダスト等により、欠けなどの欠陥が発生することを抑制し、且つ、反り上がり、剥がれなども抑制することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することを目的とする。【解決手段】アドレス電極など、形成する構造物のパターンに対する露光を、その略中央領域をパターン露光する第一の露光と、この第一の露光による露光領域に一部を重複させて、前記構造物のパターンのうちの残りの領域をパターン露光する第二の露光とにより行う。これにより、フォトマスク22、24に付着したダストによるパターンの断線と、二回露光による形状不良の発生とを抑制することが可能となる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィ法により形成した構造物を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、形成する構造物のパターンに対する露光を、その略中央領域をパターン露光する第一の露光と、この第一の露光による露光領域に一部を重複させて、前記構造物のパターンのうちの残りの領域をパターン露光する第二の露光とにより行うプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (17件)：
5C027AA02
, 5C027AA03
, 5C040FA01
, 5C040FA04
, 5C040GB03
, 5C040GB14
, 5C040GC19
, 5C040JA02
, 5C040JA07
, 5C040JA15
, 5C040KA16
, 5C040KB13
, 5C040KB17
, 5C040LA12
, 5C040LA17
, 5C040MA23
, 5C040MA26
