エピタキシャル成長観察装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-173723
公開番号（公開出願番号）：特開平7-006967
出願日： 1993年06月20日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：

【要約】【目的】この発明の目的は、試料の加熱中でも反射高速電子回折装置の回折模様の観察を可能にするエピタキシャル成長観察装置を提供することである。【構成】この発明のエピタキシャル成長観察装置は、蛍光スクリーンと観察者との間に蛍光スクリーンの発光色のみを透過する光学フィルターを配設したことを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

所定の温度に保持された試料に蒸発物資を照射して、そこに薄膜を形成しているときに、電子線を試料の表面に鋭角的に照射し、試料の表面で反射、回折するときに発生する回折模様を蛍光スクリーンに投影させ、その投影された回折模様を真空槽外の観察者が観察するエピタキシャル成長観察装置において、上記蛍光スクリーンと観察者との間に蛍光スクリーンの発光色のみを透過する光学フィルターを配設したことを特徴とするエピタキシャル成長観察装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 , C30B 23/02 , C30B 25/16

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平1-149353
特開平1-149353
特開平1-149353

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