特許

J-GLOBAL ID：200903088328378787

ITOスパツタリングタ-ゲツト及びその製造方法

発明者： 中島 光一 ,  桑野 勝雄 ,  佐藤 則秋
出願人/特許権者： 株式会社日鉱共石
代理人 (1件)： 今井 毅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-289191
公開番号（公開出願番号）：特開平5-098436
出願日： 1991年10月08日
公開日（公表日）： 1993年04月20日
要約：

【要約】【目的】 スパッタリング作業の不安定を来たことなく、優れた性能の高屈折率透明ITO膜を安定して得ることのできるITO焼結タ-ゲットを実現する。【構成】 酸化インジウムと酸化錫を主成分とし、かつゲルマニウム成分を配合した粉末冶金原料を酸素雰囲気中で焼結することにより、1〜15wt%の酸化ゲルマニウムを含有すると共に、密度D(g/cm3)とバルク抵抗値ρ(mΩcm)がa) 5.50 ≦ D ≦ 7.23 ,b) -0.333D+2.742 ≧ ρ ≧ -0.283D+2.057 ,なる2つの式を同時に満たすITOタ-ゲットを製造する。

請求項（抜粋）：

酸化インジウムと酸化錫を主成分とした原料から粉末冶金法にて製造されたITOスパッタリングタ-ゲットであって、1〜15wt%の酸化ゲルマニウムを含有すると共に、密度D(g/cm3)とバルク抵抗値ρ(mΩcm)が下記2つの式を同時に満たして成るITOスパッタリングタ-ゲット。a) 5.50 ≦ D ≦ 7.23 ,b) -0.333D+2.742 ≧ ρ ≧ -0.283D+2.057 。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  B22F 3/00 ,  B22F 5/00