特許

J-GLOBAL ID：200903088334038858

磁気ディスク用基板の表面加工方法

発明者： 茂 智雄 ,  真壁 保志 ,  栢野 道明 ,  福谷 正憲
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-273977
公開番号（公開出願番号）：特開2001-101653
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 磁気ディスク用基板の表面を平滑でかつ均一な粗さを有するように仕上げる。【解決手段】 表面に導電層を有する磁気ディスク用基板を回転させ、基板に対向して設置されている電極と基板間を電解液で電気的に導通させた状態で両者間に電圧を印加し、かつ基板にクリーニング材を接触させて、基板表面の電解処理とクリーニング材による摩擦クリーニング処理とを同時に行う磁気ディスク用基板の表面加工方法において、電解液としてpH4以下の酸性水溶液を用いる。

請求項（抜粋）：

表面に導電性の非磁性層を有する磁気ディスク用基板を回転させ、基板に対向して設置されている電極と基板間を電解液で電気的に導通させた状態で両者間に電圧を印加し、かつ基板にクリーニング材を接触させて、基板表面の電解処理とクリーニング材による摩擦クリーニング処理とを同時に行う磁気ディスク用基板の表面加工方法において、電解液としてpH4以下の酸性水溶液を用いることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

G11B 5/84 ,  C25F 1/04

FI (2件)：

G11B 5/84 A ,  C25F 1/04

Fターム (9件)：

5D112AA02 ,  5D112AA03 ,  5D112BA06 ,  5D112BD06 ,  5D112GA09 ,  5D112GA13 ,  5D112GA14 ,  5D112GA26 ,  5D112GA30