特許
J-GLOBAL ID：200903088339521646
近接場光発生方法及び装置並びに近接場光による光記録用ヘッド
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-304957
公開番号（公開出願番号）：特開2000-132861
出願日： 1998年10月27日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【課題】 強度の大きい近接場光を得ることができ、且つ、近接場光の発生領域を入射光の波長よりも十分小さく制限することができる近接場光発生方法及び装置を提供する。近接場光による記録媒体への情報の記録を行うための光記録用ヘッドであって、従来の光記録用ヘッドよりも小さなスポットサイズで、且つ、強度の大きな近接場光を照射して記録でき、従来の近接場光発生装置を用いた場合よりも情報を高速に記録でき、また、大容量光記録、光微細記録に対応できる光記録用ヘッドを提供する。【解決手段】 近接場光発生方法を実施する近接場光発生装置100は、光路40の一部をプリズム6(全反射部材の一例)の全反射面7で形成し、光路40を進む光4が途中で全反射面7で全反射されるように形成した光共振器50の全反射面7において光源1からの光照射による光の全反射側とは反対側7’に近接場光発生領域規制用微小開口10を有するマスク層9(マスクの一例)を設けてある。
請求項（抜粋）：
光路の一部を全反射部材の全反射面で形成し、光路を進む光が途中で該全反射面で全反射されるように形成した光共振器の該全反射面において光の入反射側とは反対側に微小開口を有するマスクを設け、光源から前記光共振器へ光照射することで、前記全反射面において光の入反射側とは反対側領域に近接場光を発生させ、且つ、該近接場光の発生領域を前記微小開口にて規制することを特徴とする近接場光発生方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G11B 7/135 Z
, G11B 7/00 626 B
5D090BB04
, 5D090CC01
, 5D090CC16
, 5D090DD03
, 5D090DD05
, 5D090FF11
, 5D090FF21
, 5D090HH01
, 5D090KK01
, 5D090KK09
, 5D090LL02
, 5D119AA22
, 5D119AA24
, 5D119DA01
, 5D119EB02
, 5D119EC18
, 5D119JA58
