特許
J-GLOBAL ID：200903088360972933
基板のプラズマ/液体併用洗浄
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
朝日奈 宗太
, 佐木 啓二
, 秋山 文男
, 田中 弘
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-571238
公開番号（公開出願番号）：特表2004-536446
出願日： 2002年03月07日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
基板を洗浄する装置および方法。基板(11)はチャック(12)に保持されるとともに回転させられ、大気圧プラズマジェット(13)が、前記基板(11)の所定領域にプラズマを当てる。ついで、液体リンス(15)が前記所定領域に噴霧される。一実施の形態においては、所望により、前記所定領域の乾燥を手助けするために、ノズルがガスを当該所定領域に吹きつける。
請求項（抜粋）：
基板の洗浄のための装置であって、
洗浄のために前記基板を保持するチャック、
前記基板から離間しており、当該基板の所定領域にプラズマを衝突させる大気圧プラズマジェット、および
液体リンスを前記基板の所定領域に噴霧する噴霧器
を備えており、前記基板が逐次的かつ同時に前記プラズマにさらされる装置。
IPC (2件)：
FI (6件)：
H01L21/304 645C
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 647A
, H01L21/304 651B
, H01L21/304 651L
, H05H1/24
