特許
J-GLOBAL ID：200903088361448561
処理装置及び処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-307133
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142465
出願日： 1993年11月12日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 処理液中に含まれる気泡や成分の乾燥、凝固によって生じるパーティクルの被処理体への付着を防止して製品歩留まりの向上を図る。【構成】 半導体ウエハWにSOG溶液Lを供給するSOG供給ノズル25と、SOG溶液収容容器51とをSOG供給管50を介して接続する。SOG供給管50に切換手段である三方切換弁17aを介して洗浄液供給源53を接続し、SOG供給管50に、SOG供給管50を流れるSOG溶液L中の異物を検出するセンサ19cを設け、このセンサ19cからの信号によって三方切換弁17aを切換えるようにする。これにより、センサ19cによりSOG供給管50内を流れるSOG溶液中の気泡等の異物を検出して、三方切換弁17aを作動させてSOG供給管50及びSOG供給ノズル25内に洗浄液を自動的に供給することができる。
請求項（抜粋）：
被処理体に処理液を供給する処理液供給ノズルと、この処理液供給ノズルに供給管を介して接続する処理液収容容器とを具備する処理装置において、上記供給管に切換手段を介して洗浄液を供給する洗浄液供給源を接続し、上記供給管を流れる処理液中の異物を検出する検出手段からの信号によって上記切換手段を切換えて上記供給管及び処理液供給ノズルに上記洗浄液を供給するようにしたことを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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