特許
J-GLOBAL ID:200903088372414510
コロイド結晶及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
畠山 文夫
, 小林 かおる
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-360533
公開番号(公開出願番号):特開2005-279633
出願日: 2004年12月13日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】 従来のポリスチレン粒子やシリカ粒子等とは屈折率が異なる新規なコロイド粒子からなり、幅広い用途に対応できるコロイド結晶及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 粒子径が0.01μm〜10μmであるテンプレート粒子を第1の分散媒に分散させ、第1の分散媒中において、テンプレート粒子の周囲に、テンプレート粒子とは異なる物質からなるシェルを積層し、コア/シェル型のコロイド粒子を作製する。次いで、その表面電荷の絶対値がゼータ電位で15mV以上となるように、pH4〜10の範囲内でpHを調整した第2の分散媒中にコロイド粒子を分散させ、コロイド粒子を規則的に配列させる。規則的に配列させる前に、コロイド粒子からテンプレート粒子を除去し、中空型のコロイド粒子を作製しても良い。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
粒子径が0.01μm〜10μmであるテンプレート粒子を第1の分散媒に分散させ、該第1の分散媒中において、前記テンプレート粒子の周囲に前記テンプレート粒子とは異なる物質からなるシェルを積層し、コア/シェル型のコロイド粒子を作製するコーティング工程と、
前記コロイド粒子の表面電荷の絶対値がゼータ電位で15mV以上となるように、pH4〜10の範囲内でpHを調整した第2の分散媒中に前記コロイド粒子を分散させ、前記コロイド粒子を規則的に配列させる結晶化工程とを備えたコロイド結晶の製造方法。
IPC (4件):
B01J19/00
, B01J13/00
, C01B33/18
, C01G23/04
FI (5件):
B01J19/00 N
, B01J19/00 K
, B01J13/00 Z
, C01B33/18 C
, C01G23/04 C
Fターム (33件):
4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G047CD04
, 4G065AA02
, 4G065AA06
, 4G065AB13X
, 4G065AB38X
, 4G065BB06
, 4G065CA01
, 4G065DA09
, 4G065EA03
, 4G065EA06
, 4G065FA01
, 4G065FA03
, 4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072DD04
, 4G072DD05
, 4G072DD06
, 4G072GG03
, 4G072JJ26
, 4G072QQ06
, 4G072UU30
, 4G075AA27
, 4G075AA35
, 4G075BB04
, 4G075BB08
, 4G075BD16
, 4G075FA12
, 4G075FB04
, 4G075FB12
引用特許:
出願人引用 (12件)
-
シリカゾル
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-273262
出願人:触媒化成工業株式会社
-
米国特許第4451412号明細書
-
微粒子分散液および化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-148493
出願人:触媒化成工業株式会社
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審査官引用 (2件)
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