特許

J-GLOBAL ID：200903088374632035

生産指示システム

発明者： 岩崎 武正 ,  前田 和彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-161740
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017703
出願日： 1995年06月28日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】微細加工ラインを対象としたクリーンルームの構築方法を提供する。【構成】半導体生産のように清浄度を必要とする微細加工処理工程内の作業で、複数の処理設備に対して搬送ハンドリング設備でワークを受け渡す事が必要である生産ラインにおいて、設備エリア,ウェハ搬送エリア,保管エリア単位に清浄度領域を独立して設けた膜形成の最小編制単位にクリーンルームを構成する。

請求項（抜粋）：

半導体のように繰返し工程が多く、工程や設備単位に作業着工順序指示が有効な生産ラインにおいて、製品の工程処理順序に従って、製品性能を決定付ける一つの工程に着目し前記工程の順に前記工程を含む工程グループの編成を行ない、前記工程グループ毎に上限である総仕掛量を設定し、前記工程グループの現有仕掛量が前記工程グループの上限を超えないように、ラインへの投入量の抑制と前記工程グループでの投入量の抑制ができる作業着工指示を行なうことを特徴とする生産指示システム。