特許
J-GLOBAL ID：200903088376151115
縦型高速熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲垣 仁義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-248297
公開番号（公開出願番号）：特開平8-088192
出願日： 1994年09月19日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】この発明は、本来温度回復の遅い部分を早くして、実際の処理状態にするまでに必要な時間を短くすることができるようにした縦型高速熱処理装置を提供することを目的とする。【構成】この発明に於いては、反応管の下端部及び/または保温筒部分に、高速で昇温できる赤外線若しくは遠赤外線ランプを配設し、基板を搭載したボ-トを反応管内の処理位置まで移動させる間に、基板を予備加熱し、且つ/または保温筒を加熱することによって、反応管内での温度回復時間(ヒ-トリカバリ)をできるだけ短縮したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
外側からヒ-タで加熱する反応管内に、処理基板を搭載し且つ下端に保温筒を連結したボ-トを収容し、基板を熱処理する縦型高速熱処理装置に於いて、前記保温筒を加熱する赤外線若しくは遠赤外線ランプ及び/または前記処理基板を予備加熱する赤外線若しくは遠赤外線ランプを配設したことを特徴とする縦型高速熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/22 511
, H01L 21/26
, H01L 21/31
