特許

J-GLOBAL ID：200903088384104843

レジスト材及びパターン形成方法

発明者： 青野 隆
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-212956
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043847
出願日： 1995年07月31日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】 白色光線下で作業が出来、熱処理工程にも耐えられ、更に赤外レーザ光で直接デジタル画像を形成することが可能なレジスト材及びパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 希アルカリ性水溶液からなる現像液に対して難溶性であって、その被膜に赤外線照射等の手段により選択的に加熱した部分が、該現像液に可溶性となることを特徴とするレジスト材、レジスト材を使用するパターン形成方法、及び該レジスト材を用いて形成された印刷版。

請求項（抜粋）：

希アルカリ性水溶液からなる現像液に対して難溶性となる被膜をレジスト材として媒体上に形成し、該被膜を選択的に加熱することにより、加熱した部分が上記現像液に可溶性となることを特徴とするレジスト材。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/26 521

FI (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/26 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 平板印刷版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-102377   出願人：イーストマンコダックカンパニー
• 特公昭46-027919
  
• 放射線感受性組成物およびそれを含む平板印刷版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-054630   出願人：イーストマンコダックカンパニー