特許

J-GLOBAL ID：200903088391077053

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

発明者： 仁王 宏之 ,  田村 一貴 ,  妹尾 将秀
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-192298
公開番号（公開出願番号）：特開2002-006497
出願日： 2000年06月27日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】a)アルカリ可溶性樹脂のアルカリ可溶性基を酸脱離基で保護したものおよびb)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物において、a)から酸により脱離した酸脱離基が酸の作用によりアルカリ可溶性基を生成することを特徴とするポジ型感放射線性組成物、およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。

請求項（抜粋）：

a)アルカリ可溶性樹脂のアルカリ可溶性基を酸脱離基で保護したものおよびb)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物において、a)から酸により脱離した酸脱離基が酸の作用によりアルカリ可溶性基を生成することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 8/12 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/26 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/14 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 8/12 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/26 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/14 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (55件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB08 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J002AA031 ,  4J002BC121 ,  4J002BG071 ,  4J002EB106 ,  4J002EB126 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002EQ036 ,  4J002EU186 ,  4J002EV236 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002FD200 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100BA03H ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA14P ,  4J100BA15P ,  4J100BA16H ,  4J100BA20P ,  4J100BA41P ,  4J100BA53P ,  4J100BA72P ,  4J100BB03P ,  4J100BC02P ,  4J100BC04P ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100BC83P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100HC04 ,  4J100HC43 ,  4J100HC69 ,  4J100HC75 ,  4J100JA38