特許

J-GLOBAL ID：200903088394898031

誘導加熱方法およびそれに用いる加熱装置

発明者： 香田 浩 ,  大橋 譲
出願人/特許権者： 大同特殊鋼株式会社
代理人 (1件)： 曽々木 太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-164162
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349569
出願日： 1993年06月07日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【目的】 厚肉部と薄肉部があるために異形形状を有する部材や加熱温度がキュリー点近傍に位置する部材に適用できる誘導加熱方法およびそれに用いる加熱装置を提供する。【構成】 本発明の誘導加熱方法は、誘導加熱用周波数を加熱効率の明らかな低下がない最少の周波数、例えば飽和点近傍にセットして被加熱部材を加熱する手順と、被加熱部材Wがキュリー点到達するした後、磁束密度を低下させてキュリー点近傍に被加熱部材Wを加熱保持する手順とを含んでなるものである。また、本発明の誘導加熱装置は、誘導加熱周波数選定手段と、少なくとも第1加熱部2と第2加熱部3とを有する誘導加熱手段1と、該誘導加熱手段1を貫通している被加熱部材搬送手段4とを備えてなり、前記第1加熱部2で被加熱部材Wがキュリー点直前まで加熱され、前記第2加熱部3により被加熱部材Wがキュリー点近傍に加熱保持されてなるものである。そのため、厚肉部と薄肉部があるために異形形状を有する部材や加熱温度がキュリー点近傍に位置する部材Wの加熱を迅速かつ均一になし得る。

請求項（抜粋）：

誘導加熱用周波数を加熱効率の明らかな低下がない最少の周波数にセットして被加熱部材を加熱する手順と、被加熱部材がキュリー点に到達する直前に、磁束密度を低下させてキュリー点近傍に被加熱部材を加熱保持する手順とを含んでなることを特徴とする誘導加熱方法。