特許

J-GLOBAL ID：200903088399970814

偏光膜製造装置

発明者： 大村 心也 ,  石橋 義英 ,  ▲べ▼ 鴻基 ,  高野 志乃
出願人/特許権者： ナカン株式会社
代理人 (3件)： 牧 哲郎 ,  牧 レイ子 ,  菊谷 公男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-057377
公開番号（公開出願番号）：特開2004-264770
出願日： 2003年03月04日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：

【課題】通常のフレキソ印刷装置を用いて偏光膜を作製する場合、版の微細溝の影響を受けずに高い偏光性能の偏光膜を簡単に作製できるようにする。【解決手段】偏光膜を作製するときは、二色性染料のインキ液を版1に塗布して版面にインキ液の薄膜を形成し、モータを駆動してピニオン8、8を回転する。これにより、版胴2が基板6の上を印刷方向に沿って転動し、インキ液の薄膜が版1から基板6に転写塗布される。このとき、ピニオン8、8と版胴2の径の違いにより版1の周面速度と基板6の平面速度に速度差が生じ、これより版1が基板6に摺接して互いに平行で向きが逆のずれ応力、すなわち剪断力がかかり、インキ液に含まれるスティック状の超分子複合体が基板6の上で印刷方向に沿って整列する。これにより、超分子複合体を構成する染料分子が規則的に配列し、インキ液の薄膜に偏光性能が生じる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

二色性染料がスティック状に自発的に積み重なった液晶状態の超分子複合体を含むインキ液を版胴に留めた版に塗布して薄膜を形成し、 この薄膜を版から基板に転写塗布して偏光膜を作製するものにおいて、 前記版胴の周面速度と基板の平面速度に速度差を持たせ、 これより版を基板に摺接して前記インキ液の薄膜を版から基板に転写塗布することを特徴とする偏光膜製造装置。

IPC (1件)：

G02B5/30

FI (1件)：

G02B5/30

Fターム (7件)：

2H049BA02 ,  2H049BA26 ,  2H049BA42 ,  2H049BC01 ,  2H049BC04 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光二色性偏光子
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-516915   出願人：オプティヴァインコーポレイテッド
• 印刷機及び画像形成装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-361039   出願人：キヤノン株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• コーティングのすべて, 19991203, p.20-p.21