特許
J-GLOBAL ID：200903088417042555
光学素子成形用型及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-226493
公開番号（公開出願番号）：特開平9-071426
出願日： 1995年09月04日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】【課題】 膜の劣化や成形品の表面粗さの劣化を生じない光学素子成形用型を製造することができる光学素子成形用型の製造方法、及び該方法により製造された光学素子成形用型を提供する。【解決手段】 リチウム、カリウム及びナトリウムよりなる元素または化合物を1種類以上含有する炭素源を用いた気相合成法により、型母材表面にリチウム、カリウム及びナトリウムよりなる1種類以上の元素を含有する炭素を主成分とする炭素膜を形成することによる光学素子成形用型の製造方法、及び該方法により製造された光学素子成形用型。
請求項（抜粋）：
リチウム、カリウム及びナトリウムよりなる元素または化合物を1種類以上含有する炭素源を用いた気相合成法により、型母材表面にリチウム、カリウム及びナトリウムよりなる1種類以上の元素を含有する炭素を主成分とする炭素膜を形成することを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C03B 11/00 N
, C04B 41/87 G
