特許
J-GLOBAL ID：200903088423433019
ホログラムの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-045436
公開番号（公開出願番号）：特開平9-212068
出願日： 1996年02月06日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】【課題】 ノイズを含まずに周辺部の回折効率を中央部より低減させたホログラムの製造方法の提供。【解決手段】 第1発明の第2露光工程で,第1露光工程で露光された感光材51の光路の前方に間隔dを置いて周辺部の光の透過率が大きい透光部材11を配置し,透光部材11と光源21との間には光の散乱体22を配置し,透光部材11を透過した光を感光材51の干渉縞に照射し干渉縞の強度に変化を与える。第2発明では,遮光部と透光部とからなるマスク部材と感光材との間にレンズを配置し,感光材とレンズとの間の距離を変化させ,感光材の周辺部における光の強度を変化させて上記干渉縞の強度に変化を与える。第3発明では,マスク部材のフーリエ変換光学系を感光材の前方に配置して露光する。
請求項（抜粋）：
周辺部の回折効率を中央部より低減させたホログラム素子の製造方法であって,その露光工程は,感光材の全面に所望の干渉縞をほぼ一定の効率で形成する第1の露光工程と,上記第1露光工程で露光された感光材を再度露光する第2の露光工程とからなり,第2露光工程では,第1露光工程で露光された感光材の光路の前方に間隔を置いて周辺部の光の透過率が中央部よりも大きい透光部材を配置し,更に,この透光部材と光源との間には光の散乱体を配置し,この散乱体を経て上記透光部材を透過した光を上記干渉縞に照射し干渉縞の強度に変化を与えることを特徴とするホログラムの製造方法。
IPC (3件)：
G03H 1/04
, G02B 5/32
, G03H 1/02
G03H 1/04
, G02B 5/32
, G03H 1/02
