特許

J-GLOBAL ID：200903088423777419

光学スケール成形用マスター型の製造方法、光学スケール成形用マスター型、光学スケール成形用スタンパーの製造方法及び光学スケールの製造方法

発明者： 鹿目 修 ,  上高原 弘文
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-036712
公開番号（公開出願番号）：特開平8-229955
出願日： 1995年02月24日
公開日（公表日）： 1996年09月10日
要約：

【要約】【目的】 安価に短時間でしかも精度良く光学スケール成形用マスター型、光学スケール成形用スタンパーが得られる光学スケール成形用マスター型の製造方法、光学スケール成形用スタンパーの製造方法及び光学スケールの製造方法を提供する。【構成】 平滑な表面をもつ原盤上に原盤よりも硬度の低い軟質層を設け、該軟質層を切削加工してスケールパターンを形成することを特徴とする光学スケール成形用マスター型の製造方法。

請求項（抜粋）：

平滑な表面をもつ原盤上に原盤よりも硬度の低い軟質層を設け、該軟質層を切削加工してスケールパターンを形成することを特徴とする光学スケール成形用マスター型の製造方法。

IPC (3件)：

B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  G01D 5/36

FI (3件)：

B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  G01D 5/36 C