特許
J-GLOBAL ID:200903088438449612
水素製造装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
奥山 尚男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-206993
公開番号(公開出願番号):特開2001-031403
出願日: 1999年07月22日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】【課題】 水素透過性の仕切り壁の耐久性を向上し、改質触媒の均一充填を図り、高純度の水素を製造可能とした水素製造装置を提供する。【解決手段】 水素透過性の仕切り壁34を有する水素製造装置において、成形した板状の改質触媒126を用いた。
請求項(抜粋):
水素透過性の仕切り壁を有する水素製造装置において、成形した板状の改質触媒を用いたことを特徴とする水素製造装置。
Fターム (6件):
4G040EA02
, 4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB23
, 4G040EB33
, 4G040EC08
引用特許:
審査官引用 (2件)
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非平衡反応用プレートフィン型反応器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-157854
出願人:川崎重工業株式会社, 住友精密工業株式会社
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燃料改質装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-009113
出願人:三菱電機株式会社
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