レーザテキスチャ装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-115703
公開番号（公開出願番号）：特開平9-277076
出願日： 1996年04月12日
公開日（公表日）： 1997年10月28日
要約：

【要約】【課題】設置スペースを削減すると共にレーザ光の減衰を最小限に抑制することが出来、出射光が質の良い円形である工業的に有利なレーザテキスチャ装置を提供する。【解決手段】基板回転機構(1)、レーザ光源(5)、当該レーザ光源からのレーザを伝送する光ファイバー(6)、基板回転機構にて回転支持された基板(3)上の突起形成面にレーザ光を照射する集光機構(22)が含まれたレーザ光照射機構(2)、基板(3)上の突起形成面にレーザ光を走査させるための、基板回転機構に回転支持された基板(3)とレーザ光照射機構(2)との相対移動機構(4)から成る。

請求項（抜粋）：

基板回転機構、レーザ光源、当該レーザ光源からのレーザ光を伝送する光ファイバー、基板回転機構にて回転支持された基板上の突起形成面にレーザ光を照射する集光機構が含まれたレーザ光照射機構、基板上の突起形成面にレーザ光を走査させるための、基板回転機構に回転支持された基板とレーザ光照射機構との相対移動機構から成ることを特徴とするレーザテキスチャ装置。

IPC (3件)：

B23K 26/08 , B23K 26/06 , G11B 5/84

FI (4件)：

B23K 26/08 F , B23K 26/08 K , B23K 26/06 E , G11B 5/84 A

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