特許
J-GLOBAL ID：200903088470969164
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川崎 実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-065658
公開番号（公開出願番号）：特開2002-319562
出願日： 1997年02月14日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：
【要約】【課題】基板の両面中央部だけでなく、基板の周縁部をも良好に洗浄する。【解決手段】ウエハWの上方および下方に配置された上面洗浄部60および下面洗浄部80は、それぞれ洗浄用ブラシ66,86を有しており、その洗浄用ブラシ66,86の中央付近には、ウエハWに第1の洗浄液を供給するための第1洗浄液供給ノズル7,8がそれぞれ配置されている。第1の洗浄液は、フッ酸、硝酸、塩酸、リン酸、酢酸、アンモニアなどの薬液、および純水を含む。一方、ウエハWの周縁部を選択的に洗浄するための周縁部洗浄ボックス300には、ウエハWの上面および下面の周縁部に第2の洗浄液を供給するための第2洗浄液供給ノズルが配設されている。第2の洗浄液は、ウエハWの周縁部に残っているスラリーを除去したり、不要な薄膜をエッチングしたりするためのエッチング液、および純水を含む。
請求項（抜粋）：
基板を回転させる基板回転手段と、この基板回転手段で回転される基板の両面の中央部に洗浄液を吐出する洗浄液供給ノズルと、上記基板回転手段で回転される基板の周縁部に向けてエッチング液を吐出するエッチング液供給ノズルとを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 643
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304 647
H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 622 Q
, H01L 21/304 643 C
, H01L 21/304 647 Z
