特許
J-GLOBAL ID:200903088488882120

浮上型磁気ヘッド製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-267846
公開番号(公開出願番号):特開平8-129843
出願日: 1994年10月31日
公開日(公表日): 1996年05月21日
要約:
【要約】【目的】 スライダの小型化に対応したスライダとサスペンションとの位置合わせ精度を確保することを可能とし、略々95%以上の歩留りを維持しつつ、±12μm以内というスライダとサスペンションとの高い位置合わせ精度をもって浮上型磁気ヘッド装置を作製する。【構成】 位置測定を行う際に、CCDカメラ45,46の各視野L,R内の画像を見ながらサスペンション4及びスライダ2の所定位置SL,SR及びCL,CRの位置測定を行う。
請求項(抜粋):
磁気ヘッド素子が設けられたスライダが支持部材により支持されてなる浮上型磁気ヘッドを作製するための浮上型磁気ヘッド製造装置において、スライダと支持部材とを重ね合わせるための治具と、当該治具上のスライダ及び/又は支持部材を所定方向に微動させて両者の相対的な位置合わせを行うための位置合わせ手段と、スライダと支持部材との位置合わせ箇所を測定するための光学手段とを有してなり、前記光学手段によりスライダと支持部材との位置合わせを同一視野内にて行って両者を貼り合わせることを特徴とする浮上型磁気ヘッド製造装置。
IPC (2件):
G11B 21/21 ,  G11B 5/60

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