洗浄剤組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-352005
公開番号（公開出願番号）：特開平7-197079
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】皮膚や眼に対する刺激が低く、しかも良好な洗浄性を有する洗浄剤組成物を提供する。【構成】対イオンにマグネシウムを不含のスルホコハク酸系界面活性剤と対イオンにマグネシウムを含有するスルホコハク酸マグネシウム系界面活性剤を含有する洗浄剤組成物であり、さらにポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を配合すると、より洗浄性が向上する洗浄剤組成物。

請求項（抜粋）：

式(1):【化1】 [式中、R1は炭素数6〜22の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又はアルケニル基、糖アルコール残基を示す。X1及びX2は一方が-SO3M2、他方が水素原子を示す。A1は-O-(B1O)n1又は-CONH-(B1O)n2を示し、n1は0〜20の整数、n2は1〜20の整数を示す。B1は炭素数2〜4のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基を示す。M1及びM2はそれぞれ、水素原子、アルカリ金属、アンモニア又は炭素数2あるいは3のヒドロキシアルキル基を有する低級アルカノールアミンを示す。]で示されるスルホコハク酸系界面活性剤(a)と、式(2):【化2】[式中、R2は炭素数6〜22の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又はアルケニル基、糖アルコール残基を示す。X3及びX4は一方が-SO3M4 1/m、他方が水素原子を示す。A2は-O-(B2O)n3又は-CONH-(B2O)n4を示し、n3は0〜20の整数、n4は1〜20の整数を示す。B2は炭素数2〜4のアルキレン基又はヒドロキシアルキレン基を示す。M3、M4の少なくとも一つはマグネシウムであり、もう一方が、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニア又は炭素数2あるいは3のヒドロキシアルキル基を有する低級アルカノールアミンを示す。mは1または2でイオン価を示す。]で示されるスルホコハク酸マグネシウム系界面活性剤(b)を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (4件)：

C11D 1/28 , A61K 7/075 , A61K 7/50 , C11D 1/29

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開平2-105896
特開平2-107698
特開平2-105894

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