特許

J-GLOBAL ID：200903088495573966

超純水の製造装置

発明者： 梶山 吉則 ,  牛越 健一 ,  金澤 浩二 ,  山本 平
出願人/特許権者： 神鋼パンテツク株式会社
代理人 (1件)： 藤本 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-242399
公開番号（公開出願番号）：特開平7-096273
出願日： 1993年09月29日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：

【要約】【目的】 たとえば半導体工場等に設置される超純水の製造装置であって、窒素ガスパージを必要とする超純水の製造装置に関し、超純水中での気泡の発生、特に加熱時における気泡の発生を防止することを目的とする。【構成】 各種の脱気手段により得られた1次純水を貯留するための1次純水槽2と、前記1次純水槽2から供給される純水を超純水として貯留するための超純水槽5と、該1次純水槽2及び超純水槽5にそれぞれ窒素ガスを注入するための窒素ガスパージ装置3,6と、前記1次純水槽2及び超純水槽5の純水や超純水をそれぞれ循環させるべく、該1次純水槽2及び超純水槽5に供給部と排出部を介して連結された循環流路とを具備した超純水の製造装置において、前記1次純水槽2及び超純水槽5のそれぞれの循環流路の供給部が、該1次純水槽2及び超純水槽5の純水,超純水の液面より下部に連結されてなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

各種の脱気手段により得られた1次純水を貯留するための1次純水槽(2) と、前記1次純水槽(2) から供給される純水を超純水として貯留するための超純水槽(5) と、該1次純水槽(2) 及び超純水槽(5) にそれぞれ窒素ガスを注入するための窒素ガスパージ装置(3),(6) と、前記1次純水槽(2) 及び超純水槽(5) の純水や超純水をそれぞれ循環させるべく、該1次純水槽(2) 及び超純水槽(5) に供給部と排出部を介して連結された循環流路とを具備した超純水の製造装置において、前記1次純水槽(2) 及び超純水槽(5) のそれぞれの循環流路の供給部が、該1次純水槽(2) 及び超純水槽(5) の液面より下部に連結されてなることを特徴とする超純水の製造装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-222769
  
• 特開平2-152589
  
• 特開昭50-086162