特許
J-GLOBAL ID:200903088497976308

投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-131776
公開番号(公開出願番号):特開平9-320927
出願日: 1996年05月27日
公開日(公表日): 1997年12月12日
要約:
【要約】【課題】 測距系やアライメント系の測定精度を向上させる。【解決手段】 投影光学系(PL)を支持する架台(110)及び隔壁(110C)で囲まれ、測距系(118)やアライメント系(120)が収納されるステージ空間(112)内への外部からの熱伝達経路中に断熱材(140)を介装し、あるいは架台(110)に温調装置(150)を設けることにより、ステージ空間(112)への伝熱を遮断し、ステージ空間(112)内の温度変化や温度むらの発生を防止する。
請求項(抜粋):
マスク上のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して移動可能な基板ステージと、該基板ステージの位置を測定するための干渉計とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系を支持する架台に設けられ、該架台と隔壁とで囲まれた前記基板ステージ及び前記干渉計のビーム光路を含む空間への外部からの熱の伝達経路を遮断する断熱材を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 515 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 Z

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