特許

J-GLOBAL ID：200903088516476702

光学的多層物体の傾きもしくは高さの検出方法及びその装置

発明者： 押田 良忠 ,  田中 稔 ,  谷本 哲三
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-097987
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036036
出願日： 1989年04月21日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】半導体ウエハ等層構造から成る物体の傾きや高さを被測定物体の構造や光特性に関係なく正確に測定できる、光学的多層物体の傾きもしくは高さの検出方法及びその装置を提供する。【解決手段】ウエハ等多層構造を有する被測定物体の表面に、指向性の高い光を、その主光線の入射角が85°以上になるように斜めに照射する。入射角度が85°以上になるとほとんどの光が表面で反射し、内部への入射は僅かになり、被測定物体の表面の情報を正確に得ることができる。また照射光をS偏光にすると表面反射はさらに大きくなり、より高精度の測定が可能になる。また、被測定物体に入射する照射光の正反射の方向は被測定物体の傾きαに対し2αとなるので、この正反射光をほぼ垂直に反射させて元の光路に戻し、再び被測定物に入射させると、その正反射光は4αとなり、被測定物の傾きを4倍の感度で検出することができる。

請求項（抜粋）：

被測定物体に照射した光の反射光の情報から傾きもしくは高さを検出する方法において、照射光の入射角度を85度以上にしたことを特徴とする光学的多層物体の傾きもしくは高さの検出方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/02 ,  G01B 11/26 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 526 B ,  G01B 11/02 Z ,  G01B 11/26 Z ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H