特許
J-GLOBAL ID:200903088525526364

マイクロレンズ形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 和泉 良彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-141431
公開番号(公開出願番号):特開2002-331532
出願日: 2001年05月11日
公開日(公表日): 2002年11月19日
要約:
【要約】【課題】光学装置(光素子、光部品等)とマイクロレンズとの光軸合わせを、簡易に低コストでアライメントできるマイクロレンズ形成方法を提供する。【解決手段】マイクロレンズを形成するマイクロレンズパタンとアライメントマークパタンとを有するフォトマスク(1)を用い、光素子(3)を有する光学装置のアライメントマークを光素子の発光または受光中心として、マイクロレンズのアライメントマーク(5)と光素子のアライメントマーク(4)とを位置合わせすることにより、マイクロレンズと光学装置の光軸合わせをして、基板(12)上に、中心にアライメントマーク(8)を有するマイクロレンズパタンを転写したレンズマーカ用膜(9)を形成し、レンズマーカ用膜上に、レンズ用液状樹脂を射出して液状のマイクロレンズを形成し、UV光を照射して硬化させてマイクロレンズとする。
請求項(抜粋):
光信号光が透過する基板を介して光信号が光素子に入出力する光学装置の上記基板表面にマイクロレンズを形成する方法であって、上記マイクロレンズを形成する部分を規定するマイクロレンズパタンと、該パタンの内部に形成されたアライメントマークパタンとを有するフォトマスクを用い、他方、光学装置のアライメントマークを、上記光素子の発光または受光中心とするか、もしくは光素子上に別に形成したアライメントマークを設け、上記フォトマスクのアライメントマークと、上記光学装置のアライメントマークとを位置合わせすることにより、上記フォトマスクと上記光学装置の位置を合わせ、上記マイクロレンズを形成する基板上に、上記マイクロレンズ材料と屈折率の等しい感光性材料膜を形成する工程と、上記感光性材料膜上に、上記フォトマスクを用い露光、および現像することにより、中心にアライメントマークを有するマイクロレンズパタンを転写したレンズマーカ用膜を形成する工程と、上記レンズマーカ用膜のマイクロレンズパタン上に、レンズ用液状樹脂を射出して、液状のマイクロレンズを形成する工程と、UV光を照射して、上記液状のマイクロレンズを硬化させてマイクロレンズを形成する工程とを少なくとも含むことを特徴とするマイクロレンズ形成方法。
IPC (4件):
B29C 39/02 ,  B29C 39/24 ,  G02B 3/00 ,  B29L 11:00
FI (4件):
B29C 39/02 ,  B29C 39/24 ,  G02B 3/00 Z ,  B29L 11:00
Fターム (5件):
4F204AA44 ,  4F204AH75 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EK18

前のページに戻る