特許

J-GLOBAL ID：200903088527427665

高純度アルミニウム箔の製造方法

発明者： 川井 正彦
出願人/特許権者： 三菱アルミニウム株式会社
代理人 (1件)： 横井 幸喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-368087
公開番号（公開出願番号）：特開2002-173748
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】 立方体方位率の高い高純度アルミニウム箔を方位率のばらつきなく安定して得ることができる製造方法を提供する。【解決手段】 純度99.9%以上の高純度アルミニウム材に200°C〜400°Cで一次中間焼鈍を施した後、5〜50%の加工率で冷間圧延をし、その後、180°C〜350°Cで二次中間焼鈍を施した後、5〜30%の加工率で冷間圧延し、その後、最終焼鈍を施す。【効果】 材料の微量不純物量や製造条件の相違によって立方体方位率にばらつきが生じるのを防止し、安定かつ高い立方体方位率を有するアルミニウム箔を得ることができる。

請求項（抜粋）：

純度99.9%以上の高純度アルミニウム材を冷間圧延により所定厚さの箔に圧延し、その後、該箔に最終焼鈍を施す高純度アルミニウム箔の製造方法において、前記高純度アルミニウム材に200°C〜400°Cに加熱する一次中間焼鈍を施した後、5〜50%の加工率で冷間圧延をし、さらに、その後、180°C〜350°Cに加熱する二次中間焼鈍を施した後、5〜30%の加工率で冷間圧延をして所定厚さの箔にし、その後、該箔に最終焼鈍を施すことを特徴とする高純度アルミニウム箔の製造方法

IPC (12件)：

C22F 1/04 ,  B21B 1/40 ,  B21B 3/00 ,  H01G 9/055 ,  C22F 1/00 606 ,  C22F 1/00 622 ,  C22F 1/00 661 ,  C22F 1/00 682 ,  C22F 1/00 685 ,  C22F 1/00 686 ,  C22F 1/00 691 ,  C22F 1/00 694

FI (12件)：

C22F 1/04 K ,  B21B 1/40 ,  B21B 3/00 J ,  C22F 1/00 606 ,  C22F 1/00 622 ,  C22F 1/00 661 Z ,  C22F 1/00 682 ,  C22F 1/00 685 Z ,  C22F 1/00 686 B ,  C22F 1/00 691 B ,  C22F 1/00 694 A ,  H01G 9/04 346

Fターム (1件)：

4E002AD13