凸欠陥部修正方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：小西淳美 (外8名) , 韮澤弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-193813
公開番号（公開出願番号）：特開平7-028228
出願日： 1993年07月12日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：

【要約】【目的】レーザビームのエグレに対応でき、半導体集積回路の微細化にともなう、欠陥部の修正にも充分対応できる、フオトマスクの遮光膜、位相シフトマスクの遮光膜やシフターの凸欠陥修正方法を提供【構成】正規のパターン部と凸欠陥部の境を、集束イオンビーム(FIB)によるミリングあるいはガスアシストエッチングにより分離した後、分離されて残った凸欠陥部をレーザを照射することによって蒸発除去する凸欠陥修正方法

請求項（抜粋）：

フオトマスクにおける遮光膜、位相シフトフオトマスクにおける遮光膜やシフターの凸欠陥部の修正方法であって、正規のパターン部と凸欠陥部の境を、集束イオンビーム(FIB)を用いた、ミリングあるいはガスアシストエッチングにより分離した後に、分離されて残った凸欠陥部をレーザを照射することにより蒸発除去することを特徴とする凸欠陥部修正方法

IPC (3件)：

G03F 1/08 , B23K 15/08 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 W , H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭60-074622
特開平4-125642
レチクル・マスクの欠陥修正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-116580 出願人：富士通株式会社

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