特許

J-GLOBAL ID：200903088577565643

合成石英ガラスの製造方法

発明者： 河野 充 ,  鍬崎 尚哉 ,  片山 英孝 ,  竹内 哲彦
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  新日鐵化学株式会社 ,  セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-352878
公開番号（公開出願番号）：特開平7-206451
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】 集積回路用投影露光装置のレンズ、液晶ディスプレイ用TFT基板、プリズム、ビームスプリッタ、分光器などの光学部品に有用な合成石英ガラスの製造方法を提供する。【構成】 シリコンアルコキシドを塩基性溶液中で加水分解して、残留炭素量が0.05重量%以下のシリカ粒子が分散した、シリカゾルを合成し、該シリカゾル及びシリコンアルコキシドの混合溶液を酸性触媒下でゲル化させてウエットゲルを作成し、該ウエットゲルを乾燥してドライゲルを得、該ドライゲルを酸素雰囲気下、あるいは酸素中と、減圧下での焼成を交互に行いながら処理して、透明石英ガラス体を得る。【効果】 ゾルーゲル法による石英ガラスの製造において、残留炭素量を低減化した原料を用い、また、石英ガラスの前駆体であるシリカゲルから効果的に炭素を除去する事により、精密光学ガラス、半導体用石英ガラスなどに有用な、合成石英ガラスを製造することができる。

請求項（抜粋）：

水、アルコール及びアンモニアの混合溶液に、シリコンアルコキシドを滴下して加水分解するに当たり、加水分解反応で消費される水の少なくとも一部をシリコンアルコキシドの滴下と並行して滴下し、残留炭素量が0.05重量%以下のシリカ粒子が分散したシリカゾルを合成し、該シリカゾルにシリコンアルコキシドを添加混合し、酸性触媒下でゲル化させてウエットゲルを作成し、該ウエットゲルを乾燥してドライゲルとした後に、該ドライゲルを焼成して透明石英ガラスを得ることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。

IPC (2件)：

C03B 8/02 ,  C01B 33/18