基板への液塗布方法および装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-291723
公開番号（公開出願番号）：特開平8-141467
出願日： 1994年11月25日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：

【要約】【目的】 LGDカラーフィルターのような大型ガラス基板に面へ、感光性樹脂のような塗布液の塗布を所定の均一な厚さで行うこと。【構成】透明なガラス基板Sの主面に、塗布液ビードBを形成しつつ塗布ヘッドHを相対的に移動させて塗布液膜Raが施される。塗布液膜Raの形成に先立って、ガラス基板Sの主面と反対側に設けたCCDカメラ20のような測定手段によって、塗布液ビードの基板主面との接触面の幅Wが透明な基板Sを通して測定される。接触面の幅Wによって、形成される塗布液膜の厚さ等が定まるので、測定された幅Wの値に基づいて、塗布速度、塗布液供給量、コーティングギヤップなどが変えられる。CCDカメラ20は透視性のある基板ホルダー8の内部に固定してもよい。

請求項（抜粋）：

水平方向に直状の塗布液供給手段をもつ塗布ヘッドを設け、前記塗布液供給手段から塗布液を供給し、塗布液供給手段に隣接して配置した基板の主面に、供給された塗布液を接触させて塗布液供給手段と基板主面との間に線状または帯状の塗布液ビードを形成し、この塗布液ビードを横切る方向に基板または塗布ヘッドを相対的に移動させ、前記塗布液供給手段から塗布液を供給し続けることにより維持される塗布液ビードを、基板の前記主面に沿って移動させて基板主面に塗布膜を形成する方法において、塗布開始直前に形成される塗布液ビードの基板主面との接触面の幅を測定し、その測定値に基づいて、形成される塗布膜の厚さに関連する塗布装置の作動条件を調整することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

B05C 5/02 , B05D 1/40 , B05D 7/00 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-214577
特開平1-094968
特開平2-214577

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