イオンビーム処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-211932
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031175
出願日： 2001年07月12日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】大電流・低電圧のイオンビームを均一に中和し、イオンビームの発散を抑えるとともに、基板帯電による損傷の少ないイオンビーム処理装置を提供する。【解決手段】イオンビーム52を照射してイオンビーム処理を行うイオンビーム処理装置において、イオンビーム52の周囲を囲むように配設されたコイル状アンテナ30に高周波電力を印加し、該コイル状アンテナ30で囲まれた空間内に中和プラズマを発生させ、処理室3もしくは基板保持器41に対して負の電位を与えられ、かつコイル状アンテナ30の巻方向と垂直方向にスリットを有し、該中和プラズマに面した筒状のイオン捕集電極31により、該中和プラズマから電子をイオンビーム52に確実に十分かつ均一に供給するようにする。

請求項（抜粋）：

イオンビームを生成するイオン源と、該イオンビームを基板もしくはターゲットに照射してイオンビーム処理を行う処理室と、該イオンビームを電気的に中和する中和手段とを有するイオンビーム処理装置において、前記イオンビーム中和手段が、該イオンビームの周囲を囲むように配設され、高周波電力を印加することによって中和プラズマを発生させるコイル状アンテナと、該コイル状アンテナに隣接して設置され、前記処理室もしくは該処理室内の基板保持器に対して負の電位を与えられて前記中和プラズマからイオンを捕集するイオン捕集電極とを有することを特徴とするイオンビーム処理装置。

IPC (7件)：

H01J 37/305 , C23C 14/46 , C23C 14/48 , G21K 1/14 , G21K 5/04 , H01L 21/3065 , H05H 3/00

FI (7件)：

H01J 37/305 A , C23C 14/46 Z , C23C 14/48 D , G21K 1/14 , G21K 5/04 A , H05H 3/00 , H01L 21/302 D

Fターム (17件)：

2G085BA02 , 2G085BE10 , 2G085DA03 , 4K029DC37 , 4K029DE02 , 4K029DE03 , 4K029DE05 , 5C034BB09 , 5C034BB10 , 5F004AA06 , 5F004BA11 , 5F004BA20 , 5F004BB07 , 5F004BB11 , 5F004BB13 , 5F004DA23 , 5F004DA26

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