特許

J-GLOBAL ID：200903088621301349

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 柿原 芳彦
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-010441
公開番号（公開出願番号）：特開2002-216319
出願日： 2001年01月18日
公開日（公表日）： 2002年08月02日
要約：

【要約】【課題】 狭いトラック幅を有する薄膜磁気ヘッドを比較的少ない製造コストで製造することができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 薄膜20を形成する工程と、薄膜20上に端部に切れ込み形状21Aを有する第1のマスク21を形成する工程と、この第1のマスク21を用いて薄膜20のパターンの一部を形成する工程と、第1のマスク21を用いて第1のマスク21とは材料の異なる第2のマスク14を薄膜20上に形成する工程と、第1のマスク21を選択的に除去して第2のマスク14を残す工程と、第2のマスク14を用いて薄膜20のパターンの他の一部を形成する工程とを有して薄膜磁気ヘッドを製造する。

請求項（抜粋）：

薄膜を形成する工程と、上記薄膜上に、端部に切れ込み形状を有する第1のマスクを形成する工程と、上記第1のマスクを用いて、上記薄膜のパターンの一部を形成する工程と、上記第1のマスクを用いて、該第1のマスクとは材料の異なる第2のマスクを上記薄膜上に形成する工程と、上記第1のマスクを選択的に除去して第2のマスクを残す工程と、上記第2のマスクを用いて、上記薄膜のパターンの他の一部を形成する工程とを有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39

FI (2件)：

G11B 5/31 M ,  G11B 5/39

Fターム (8件)：

5D033DA03 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31 ,  5D034BA02 ,  5D034BA09 ,  5D034BA12 ,  5D034CA06 ,  5D034DA07