特許
J-GLOBAL ID：200903088623087760
ペリクル収納容器
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291668
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142562
出願日： 1993年11月22日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明は、半導体製造におけるフォトリソグラフィー工程で使用するレチクルまたはフォトマスク防塵用のペリクル収納容器の提供を目的とするものである。【構成】 本発明のペリクル収納容器は、載置台にペリクル膜を上向きにしてペリクルを置き、上ぶたでペリクルを固定するペリクル収納容器において、上ぶたとペリクル枠または上ぶたと載置台とがパッキンを介して接触するように、上ぶたにパッキンを設けてなることを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
載置台にペリクル膜を上向きにしてペリクルを置き、上ぶたでペリクルを固定するペリクル収納容器において、上ぶたにパッキンを設けてなることを特徴とするペリクル収納容器。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, B65D 53/02
, G03F 1/14
, H01L 21/027
