特許

J-GLOBAL ID：200903088628222568

溶接部に酸化不動態膜を形成する方法及びプロセス装置

発明者： 大見 忠弘 ,  中村 雅一
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  大阪酸素工業株式会社
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-304142
公開番号（公開出願番号）：特開平6-039543
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、溶接工程中に、溶接部及びその近傍に耐食性と共にアウトガス放出量の極めて少ない酸化不動態膜を形成することが可能な溶接方法及び超高清浄な雰囲気を必要とするプロセス装置を提供することを目的とする。【構成】 溶接工程中に1ppb〜50ppmの酸素ガスを含有した不活性ガスからなるバックシールガスを流し、溶接部表面に酸化クロムを主成分とする酸化不動態膜を形成することを特徴とする。また、装置の施工に溶接を用いるプロセス装置において、溶接工程中に1ppb〜50ppmの酸素ガスを含有した不活性ガスからなるバックシールガスを流し、溶接部表面に酸化クロムを主成分とする酸化不動態膜を形成したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

溶接工程中に1ppb〜50ppmの酸素ガスを含有した不活性ガスからなるバックシールガスを流し、溶接部表面に酸化クロムを主成分とする酸化不動態膜を形成することを特徴とする溶接部に酸化不動態膜を形成する溶接方法。

IPC (3件)：

B23K 9/035 ,  B23K 9/00 501 ,  C23C 8/18