特許

J-GLOBAL ID：200903088646907969

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： 釜淵 明 ,  上谷 保則 ,  森馬 洋
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-141540
公開番号（公開出願番号）：特開2004-109976
出願日： 2003年05月20日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】新規な塩を提供するとともに、これと樹脂成分とを含有し、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善されたラインエッジラフネスを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物。【解決手段】下式(I)で示される塩と、(Q1、Q2、Q3、Q4及びQ5は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜16の分岐していてもよいアルキル基、アルコキシ基又は電子吸引基を表す。ただし、Q1、Q2、Q3、Q4及びQ5のうち少なくとも一つは、炭素数3〜16の分岐していてもよいアルキル基又はアルコキシ基であり、少なくとも一つは、電子吸引基である。A+は、対イオンを表す。)酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下式(I)で示される塩と、

IPC (3件)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (16件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17