特許
J-GLOBAL ID:200903088655325115

導電層又は絶縁層及びこれらの形成方法並びに該形成方法に使用する感光性スラリー液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 土井 育郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-142823
公開番号(公開出願番号):特開平8-055575
出願日: 1995年06月09日
公開日(公表日): 1996年02月27日
要約:
【要約】【目的】 フォトリソグラフィ法で導電層又は絶縁層をガラス基板上にパターン形成する際に、溶剤を取り扱うときの環境の問題、アルカリ性水溶液で現像したときの廃液処理の問題を無くす。【構成】 PVA系水溶性感光液にバインダーとなる低融点ガラス粉末と導電性又は絶縁性を有する粉末を混入した感光性スラリー液を使用するフォトリソグラフィ法によりガラス基板上に導電層(陽極母線3)又は絶縁層(障壁1)を形成するに際し、B2 O3 成分の含有量が6重量%以下である低融点ガラス粉末を用いる。PVAがゲル化することなく、塗布可能な状態となる。溶剤タイプの感光性スラリー液を使用する従来のフォトリソグラフィ法に比較して、溶剤を扱うときの環境の問題、アルカリ性水溶液で現像したときの廃液処理の問題を解決できる。
請求項(抜粋):
PVA系水溶性感光液にバインダーとなる低融点ガラス粉末と導電性又は絶縁性を有する粉末を混入した感光性スラリー液を用い、ガラス基板上にフォトリソグラフィ法でパターン状に形成された導電層又は絶縁層であって、前記低融点ガラス粉末中に含まれるB2 O3 成分の含有量が6重量%以下であることを特徴とする導電層又は絶縁層。
IPC (3件):
H01J 9/02 ,  H01B 13/00 503 ,  H01J 9/24
引用特許:
審査官引用 (3件)

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