基板処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-337053
公開番号（公開出願番号）：特開2000-164671
出願日： 1998年11月27日
公開日（公表日）： 2000年06月16日
要約：

【要約】【課題】システムの全体に亘って基板の搬送を行う主搬送装置の移動のタイミングに応じて、レジスト塗布とその後の処理とを制御してこれらの処理を基板に悪影響を与えずに連続的に行うことができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】基板Gにレジストを塗布するためのレジスト塗布ユニット22aと、レジストが塗布された基板Gを非加熱状態で乾燥する乾燥処理ユニット22bと、塗布ユニット22aへ基板Gを搬入するための基板搬入ポート81と、処理終了後の基板Gを装置外へ搬出するための基板搬出ポート82と、基板Gをレジスト塗布ユニット22aから乾燥処理ユニット22bへ搬送し、さらに基板搬出ポート82から搬出可能な位置に搬送するユニット間搬送機構41,42と、主搬送装置18が基板搬出位置85に来るタイミングに応じて、ユニット間搬送機構41,42による基板搬送を制御するコントローラ91,93とを有する。

請求項（抜粋）：

基板に複数の処理を行うための処理システムに組み込まれ、少なくも2つの処理を行う処理装置であって、基板にそれぞれ異なる所定の処理を施す少なくとも第1および第2の処理ユニットと、前記処理システム全体に亘って基板の搬送を行う主搬送装置により、前記第1の処理ユニットへ基板を搬入するための基板搬入ポートと、処理終了後の基板を装置外へ搬出するための基板搬出ポートと、搬入された基板を前記第1の処理部から第2の処理部へ搬送し、さらに基板搬出ポートから搬出可能な位置に搬送する搬送機構と、前記主搬送装置が前記基板搬出ポートに対応する位置に来るタイミングに応じて、前記搬送機構による装置内での基板搬送を制御する制御手段とを具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/68 , B05C 11/08 , B05C 13/02 , B65G 1/00 535 , G02B 5/20 101 , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 , H01L 21/304 644

FI (8件)：

H01L 21/68 A , B05C 11/08 , B05C 13/02 , B65G 1/00 535 , G02B 5/20 101 , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 , H01L 21/304 644 D

Fターム (40件)：

2H025AA00 , 2H025AB13 , 2H025AB14 , 2H025AB20 , 2H025EA04 , 2H025EA10 , 2H048BA43 , 2H048BA48 , 2H048BB02 , 2H048BB14 , 2H048BB42 , 2H096FA03 , 2H096FA05 , 2H096FA10 , 2H096GA24 , 2H096JA03 , 2H096JA04 , 3F022AA08 , 3F022CC02 , 3F022EE05 , 3F022KK10 , 3F022LL12 , 3F022MM01 , 3F022MM13 , 3F022NN51 , 3F022NN57 , 3F022PP06 , 4F042AA07 , 4F042BA01 , 4F042DC01 , 4F042DF15 , 4F042DF25 , 4F042EB00 , 4F042EB24 , 5F031CA05 , 5F031GA48 , 5F031MA23 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031PA03

引用特許：

審査官引用 (3件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-187291 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
板状体の搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-110421 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板端縁部の洗浄装置及び洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-325576 出願人：東京応化工業株式会社

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